台積電狂掃EUV設備這3家供應鏈廠商可望持續受惠 | 台積電機台供應商
▲後摩爾時代,極紫外光(EUV)微影成為推動先進製程向前邁進的關鍵技術,目前包括台積電、三星、英特爾等大廠也積極導入EUV。(圖/陳俊松攝)進入後摩爾時代,極紫外光(EUV)微影成為推動先進製程向前邁進的關鍵技術,目前包括台積電(2330)、三星(Samsung)、英特爾(intel)等大廠也積極導入EUV。據供應鏈消息,2021年ASML(艾司摩爾)EUV設備出貨量從40台起跳,其中台積電包下至少15台、上看20台,穩居最大客戶;法人看好ASML供應鏈的帆宣(6196)、家登(3680)、公準(3178)等有望持續受惠。根據摩爾定律,積體電路(IC)上可容納的電晶體數目,...
▲後摩爾時代,極紫外光(EUV)微影成為推動先進製程向前邁進的關鍵技術,目前包括台積電、三星、英特爾等大廠也積極導入EUV。(圖/陳俊松攝)
進入後摩爾時代,極紫外光(EUV)微影成為推動先進製程向前邁進的關鍵技術,目前包括台積電(2330)、三星(Samsung)、英特爾(intel)等大廠也積極導入EUV。據供應鏈消息,2021年ASML(艾司摩爾)EUV設備出貨量從40台起跳,其中台積電包下至少15台、上看20台,穩居最大客戶;法人看好ASML供應鏈的帆宣(6196)、家登(3680)、公準(3178)等有望持續受惠。
根據摩爾定律,積體電路(IC)上可容納的電晶體數目,大約每18-24個月就會增加1倍,性能也將提升一倍,成本則下降一半。從物理定律來看,電晶體的微縮不可能永無止盡,市場質疑摩爾定律將無法延續;而EUV技術可以減少晶片生產步驟及光罩層數,達到降低成本的好處,因此被視為發展先進製程的重要技術。
台積電從7+製程開始導入EUV技術,跨入新一製程世代,每片晶圓所採用的EUV光罩層數也越來越多。業內分析,台積7+大約需要2~4層EUV光罩層、5奈米約12~14層,3奈米更需要到24層,可見EUV的重要性;而3奈米也拍板non-Pellicle(無光罩保護膜),不僅更環保,也能讓EUV生產力(Productivity)發揮到極致。
台積5奈米已在南科順利量產,而3奈米的生產基地也在南科,台南可說是EUV重鎮,據悉,目前南科的EUV機台就多達20幾台,由於3奈米新廠將於今夏開始進機,未來將一舉突破30台。再者,Intel、三星也積極布建EUV產能,加上SK海力士等記憶體大廠相繼導入EUV,均將支撐EUV的未來需求。
現在市場已知的EUV供應鏈,包括光罩盒供應商家登、EUV設備模組代工廠帆宣、零組件供應商公準等。其中,帆宣目前在手訂單約243億元,訂單年見度直透年底,法人看好今年營收可望雙位數成長,整體營運表現將再締新猷。
看好半導體需求前景,家登規劃在土城新建廠區,最快2022年底完工,整體產能將較目前提升超過一倍,同時也積極開發晶圓載具新品,並布局航太新事業,...