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PVD|什麼是鍍膜?鍍膜的原理是什麼?鍍膜如何形成? 物理氣相沉積法(PhysicalVaporDeposition,PVD),泛指將固體予以蒸發或昇華並附著在基材表面形成薄膜的製程。基本上,因成膜的過程中僅牽涉物理變化,故名之。其物理變化可想像成固態冰經熱源蒸發後變成水蒸氣,水蒸氣碰到較低溫的玻璃基板上凝結的過程。最主要PVD可分成三類,分別為蒸鍍(Evaporation)、濺鍍(Sputtering)以及離子鍍(IonPlating),並依照不同的形式再加以細項分類,如圖1。公司所採用的PVD技術為電弧離子鍍(ArcIonPlating,AIP),如圖2為AIP真空製程簡易示意圖,此方式使...
PVD | 什麼是鍍膜? 鍍膜的原理是什麼? 鍍膜如何形成?
物理氣相沉積法(Physical Vapor Deposition, PVD),泛指將固體予以蒸發或昇華並附著在基材表面形成薄膜的製程。
基本上,因成膜的過程中僅牽涉物理變化,故名之。其物理變化可想像成固態冰經熱源蒸發後變成水蒸氣,水蒸氣碰到較低溫的玻璃基板上凝結的過程。
最主要PVD可分成三類,分別為蒸鍍(Evaporation)、濺鍍(Sputtering)以及離子鍍(Ion Plating),並依照不同的形式再加以細項分類,如圖1。
公司所採用的PVD技術為電弧離子鍍(Arc Ion Plating, AIP),如圖2為AIP真空製程簡易示意圖,此方式使用陰極電弧源。
在高真空中以高電流、低電壓產生電弧放電,使其撞擊金屬靶材,引發陰極弧光與電漿流,並在被鍍物基材端施加負偏壓電源,使其所解離的帶正電離子引向基材端而沉積薄膜,如圖3為公司內部設備之實際製程圖。
相比其他PVD製程,電弧離子鍍有較高的薄膜沉積速率,且可以製備出高緻密性及附著力佳的薄膜,廣泛適用於工具鍍膜及裝飾性鍍膜領域。
其AIP製程可參考以下影片:
https://www.youtube.com/watch?v=SB6xuRC4K80[1]
圖(三)
PVD鍍膜原理 - 電弧(Arc)生成
當引弧棒撞擊金屬靶材時,會先在靶面上蝕刻出一個直徑為1~20 μm的坑洞,我們稱之為弧點。
當弧點產生之後,由於局部溫度升高、膨脹及爆炸,會在弧點表面形成微坑洞,高溫也使金...